ASML續主導晶片設備市場 客戶搶訂High NA

（綜合中央社、聯合報等2家媒體報導）

路透社分析指出，荷蘭晶片設備製造商ASML正延續其市場主導地位，客戶已陸續承諾採用其下一代高數值孔徑（High NA）設備。ASML在荷蘭愛因霍芬的新廠上週動工。

ASML每台造價2億美元的現有極紫外光曝光機（EUV）訂單幾乎排滿至2027年，客戶也紛紛承諾採用每台造價4億美元的High NA設備。財務長達森（Roger Dassen）透露，近期與一家主要客戶對話時，對方語氣是：「你能不能給我更多？你能不能快點給我？」

台積電、三星與SK海力士都已訂定開始在生產中採用High NA的時間。較早採用該技術的英特爾表示，這些設備已符合產能與可靠度標準。台積電過去曾質疑High NA設備是否值得4億美元售價，如今已承諾從2030年開始採用。

ASML執行長福克（Christophe Fouquet）表示：「老實說，我不認為（AI熱潮）已經走到盡頭。」摩根大通估計，ASML於2025年在全球微影設備市場的市占率達94%。在最尖端的EUV領域，ASML自2010年代末期以來一直壟斷市場，無商業競爭對手。日本尼康、佳能及中國新興競爭對手都使用較舊的深紫外光（DUV）技術。

晨星分析師科雷奧內羅（Javier Correonero）表示，外界擔心這些企業即將在微影技術追上ASML，等同於「錯誤資訊」。