ASML High NA EUV量產 英特爾率先導入

（綜合中央社、聯合報等2家媒體報導）

荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）15日宣布，高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）技術邁入量產里程碑。英特爾晶圓代工（Intel Foundry）已將ASML的EXE High NA EUV設備用於量產部分代號為Panther Lake的Core Ultra Series 3處理器。

英特爾18A製程的特定層數已在美國奧勒岡州完成High NA EUV製程的雙重驗證，產品良率已達到與現有NXE平台相當的水準，並開始出貨給客戶。英特爾晶圓代工事業執行副總裁錢德拉賽卡蘭表示，這項里程碑證明High NA EUV技術已能整合至先進半導體的量產製程中[2]。

ASML同時公布2026年第2季財報，銷售淨額達93億歐元，毛利率54%，均高於預期。第3季展望預估銷售淨額約110至120億歐元，毛利率約55%至57%。ASML並規劃2027年將Low NA EUV微影設備產能提升30%，浸潤式DUV系統產能也增加30%。

晶圓代工龍頭台積電曾表示，ASML這款最新EUV價格過高，目前仍不適合用於量產，將在未來某個時間點才會導入[2]。