ASML估High NA EUV晶片數月內問世

（綜合中央社、聯合報等3家媒體報導）

艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）今天在比利時imec主辦的會議上表示，預期幾個月內可看到使用新一代High NA EUV微影設備製造的首批產品問世，涵蓋記憶體或邏輯應用。他強調，該設備能降低最先進晶片的圖案化成本。

ASML台灣暨東南亞區客戶行銷主管徐寬成日前在媒體交流會指出，High NA EUV有助客戶節省時間及成本，已累積超過35萬片晶圓使用該設備曝光[3]。

此消息發布前，ASML最大客戶台積電4月才公開表示High NA EUV曝光機太過昂貴，每台價格最高達4億美元（約新台幣126.6億元）。