- 黃崇仁親自主持法說會,強調轉型已走出成熟製程框架
- WoW技術完成4層客戶認證,8層DRAM堆疊良率逾9成
- 12吋矽電容已通過國際CPU大廠EMIB認證並出貨
- 3D AI Foundry目標3年內營收占比提升至20%
- 邏輯代工第2季調漲價格10%至15%,產能利用率接近滿載
- 印度建廠已認列逾1億美元收入,明年底完成土建
(綜合ETtoday新聞雲、聯合報報導)
力積電14日召開法人說明會,董事長黃崇仁親自主持,強調公司已從傳統成熟製程代工轉型為涵蓋先進封裝、記憶體及邏輯代工三大業務的半導體公司,其中3D AI Foundry將是未來最重要的成長引擎。
黃崇仁表示,力積電投入超過6年的Wafer-on-WoW(WoW)技術居全球領先地位。目前已完成4層WoW主要客戶資格認證,8層DRAM堆疊良率超過9成,並持續開發12層堆疊。他強調,力積電是全球唯一完成4層WoW認證、也是唯一8層DRAM堆疊良率逾9成的業者,其他競爭者需較長時間追趕。總經理朱憲國補充,4層WoW產品良率已達量產水準,正等待先進邏輯晶片客戶產品導入,8層產品仍持續驗證中[2]。
針對WoW與HBM的差異,黃崇仁指出,HBM堆疊層數愈高伴隨更大的散熱與功耗挑戰,WoW採用Hybrid Bonding直接貼合晶圓,可兼顧高頻寬與低功耗,未來若AI產業更重視能源效率,有機會成為新架構選項。朱憲國說明,目前HBM 4以前仍以Micro-bump堆疊為主,部分國際記憶體大廠已開始朝Hybrid Bonding發展[2]。
在先進封裝其他產品線方面,黃崇仁表示,12吋矽電容已通過國際CPU大廠EMIB封裝技術認證並開始穩定投片出貨,矽中介層(Interposer)受惠AI先進封裝需求持續增加,產線已完成移轉並開始量產爬坡。聯合報報導,矽電容明年下半年規劃將8吋月產能增至5,000片,12吋月產能提升至8,000至1萬片,並評估進一步擴充廠房空間[1]。矽光子方面,力積電規劃兩條技術路線:開發應用於機櫃及主機板的光子積體電路,以及發展光學中介層,相關技術仍處研發初期[1]。
記憶體方面,公司維持從利基型至高階DRAM的完整產品線,自行開發的DDR4 8Gb預計今年底前逐步產出,明年在美光技術支援下建立量產能力。美光PWF合作案設備預計今年底前進駐,目標明年第4季量產;1P DRAM設備預計明年第1季底前到位,規劃2028年中量產[1]。
邏輯代工方面,力積電第2季已針對8吋及12吋價格調漲10%至15%,若市場持續缺貨不排除再度調價;第3季及第4季產能利用率預估均接近滿載。黃崇仁表示,AI伺服器帶動電源管理及功率元件需求,8吋MOSFET及分離式元件產能已長期滿載。第三代半導體布局碳化矽及GaN on Silicon,與美國Navitas合作,最快可能明年上半年開始小量生產[1]。
朱憲國表示,目前3D AI Foundry受限於產能,今年營收占比仍為個位數,但客戶需求強勁,目標3年內將4大產品線合計營收占比提升至20%[2]。
印度建廠案方面,力積電已認列超過1億美元相關收入,印度晶圓廠預計明年底完成土建、後年初搬入設備,屆時技術移轉收入才會逐步放大[1]。
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