SK海力士前員工洩密陸企 二審判刑1年半

（綜合ETtoday新聞雲、中央社、聯合報等4家媒體報導）

南韓半導體大廠SK海力士爆發營業秘密外洩案。一名曾任職於SK海力士中國法人的韓籍金姓前員工，因向中國企業洩漏半導體相關技術機密，二審遭首爾高等法院判處有期徒刑1年6個月，維持一審刑度。

法院認定，金男於2022年準備轉職期間，違反公司安全規範，從內部文件管理系統大量列印或拍攝與CMOS影像感測器（CIS）相關的技術資料及營業秘密，並將部分內容直接放入求職履歷，提交給中國企業。檢方依違反《產業技術保護法》、《不正當競爭防止法》及業務上背任等罪名起訴。

報導指出，金男跳槽的對象為華為旗下的海思半導體（HiSilicon）[4][2]。法院未公開涉事中國企業名稱[3]。

針對量刑理由，二審法院表示，相關資料是SK海力士多年投入研發的成果，若從輕量刑，恐削弱企業研發意願，也讓海外競爭對手透過人才招募輕易取得南韓企業重要技術。考量金男已坦承犯行，且大部分外洩資料已被追回，法院未再加重刑度。

此外，金男另被指控洩漏下一代記憶體技術「混合鍵合」（Hybrid Bonding）相關資料，但一、二審法院均認定，案發當時該技術尚未被南韓產業通商資源部正式列入尖端技術範圍，因此就此部分判決無罪[4][2]。