中國量產自研DUV設備 摩根大通評影響有限

（綜合民視新聞、聯合報等2家媒體報導）

外媒報導，中國已開始量產自主研發的浸沒式深紫外光（DUV）微影設備，由國有企業「上海愛生納電子科技集團」主導，整合多家中國微影設備新創公司技術團隊。預計今年生產約5台，明年提升至約20台[2]，聯合報則報導明年目標為20至30台[1]。

DUV設備是晶片製造關鍵設備，全球市場長期由荷蘭ASML主導。消息傳出後一度衝擊ASML股價，但市場分析師普遍認為短期影響有限。摩根大通分析師在28日報告中指出：「能夠生產少量浸沒式DUV設備，並不代表已具備大規模量產能力。真正關鍵的是良率、套準精度、產能，以及設備在數千次晶圓製程中的可靠性。」[2]

法人分析，中國自產DUV初期年產能僅約5台，技術性能、良率與可靠度仍顯著落後ASML；ASML單年DUV產能高達130台，且近年中國市場營收占比已由2024年的41%降至近期約14%，短期內對ASML實質業績影響微乎其微，股價暴跌主因是投資人對「壟斷地位破裂」的情緒性反應[1]。

長期而言，法人認為ASML在中國成熟製程市場的獨占優勢將被中國本土設備漸進式吞噬。中國自產DUV對成熟製程（28nm以上）及規格較不苛求的記憶體（DDR4/DDR5、NAND Flash）的影響，最快在2028年後才會顯現，因2027年機台產出後仍需調校時間[1]。

對台灣設備廠影響方面，法人指出，台灣半導體設備與耗材龍頭主要營運動能綁定台積電等大廠的先進製程（EUV/2nm/3nm）及HBM/AI晶片，中國國產DUV僅能用於成熟製程，無法觸及EUV技術領域，對台灣先進製程設備供應鏈無實質威脅。但少數以成熟製程晶圓廠（如聯電、力積電）或中國晶圓廠為主要客戶的設備代理商與廠務維修業者，長線可能面臨中國客戶轉向本土設備商的訂單流失風險[1]。