汎銓籲同業尊重專利 光損定位設備9月完成開發

（綜合今日新聞、壹蘋新聞網、聯合報等3家媒體報導）

半導體檢測大廠汎銓科技（6830）今（18）日發布聲明，針對市場傳出有同業採購的光損檢測設備，可能涉及向遭汎銓提起專利侵權訴訟的廠商採購，公司已責成法務團隊與外部律師進一步了解事實，不排除採取任何維護智慧財產權及股東權益的必要措施。

汎銓已於今年3月正式對涉及侵權的廠商提起專利侵權訴訟，目前案件進入司法程序，公司尊重審理結果，現階段不對個案內容評論，但將持續關注相關產品、設備及供應鏈流向。

汎銓長期布局半導體先進製程材料分析、AI晶片檢測及矽光子檢測等高階技術服務，業務涵蓋台灣、美國、日本等市場，並已取得台灣、美國、日本及韓國的「光損偵測裝置」發明專利。相關技術可應用於矽光子、共同封裝光學元件（CPO）及高速光通訊元件的開發與量產檢測，能快速定位光訊號傳輸過程中的漏光與損耗位置。

汎銓指出，近期多家業者投入光損定位與光路檢測領域，顯示矽光子與CPO產業對相關技術需求持續升溫，也證明光損檢測已成為光通訊產業的重要基礎技術。

在商業布局方面，汎銓已建立「分析服務、設備銷售及專利授權」三大模式。其中，「MSS HG」光損定位設備預計今年9月完成銷售版開發，朝年底前正式銷售目標邁進。公司也規劃透過專利授權模式，與國際設備商合作推動光損定位技術導入量產端應用。