- 汎銓股東會通過配發每股1元現金股利,配息率141%
- 2025年營收21.79億元創新高,但稅後淨損3,667萬元
- 2026年聚焦四大主軸,加速矽光子與CPO業務
- 自主開發MSS HG光損偵測定位平台,可即時定位光路異常
- 已取得台美日韓「光損偵測裝置」發明專利
- MSS HG設備銷售版預計9月完成驗證,年底前出貨
(綜合壹蘋新聞網、聯合報等2家媒體報導)
汎銓(6830)今(11)日召開2026年股東常會,通過2025年度營業報告書及決算表冊,並決議以未分配盈餘配發每股1元現金股利,配息率達141%,已於5月8日發放完畢[2]。
2025年合併營收21.79億元,年增10.78%,續創歷史新高,但受新廠建置、先進設備投資、海外據點擴張及人才培育等前期投入影響,全年稅後淨損3,667萬元,每股虧損0.71元。董事長柳紀綸表示,營收持續創高,顯示公司在先進製程材料分析及AI晶片研發分析市場的競爭力持續提升。
展望2026年,汎銓聚焦四大營運主軸:強化埃米世代先進製程材料分析技術、深化全球四大半導體產業聚落布局、擴大Tier-1 AI客戶合作,以及加速矽光子與共同封裝光學(CPO)業務發展。
汎銓已自主開發「MSS HG光損偵測定位平台」,整合IR金相顯微鏡、IR影像感測器、自動耦光模組、雷射量測平台及自動化分析軟體,可在光訊號傳輸過程中即時定位異常光路區域,協助客戶完成從失效分析到製程改善的完整流程,應用範圍涵蓋PIC晶片、CPO元件、光學引擎及光模組等產品。
智慧財產布局方面,汎銓已取得台灣、美國、日本及韓國等半導體主要市場的「光損偵測裝置」發明專利,技術涵蓋100奈米至6000奈米波段的漏光偵測、定位與分析能力。
汎銓表示,未來將同步推動量測分析服務、MSS HG設備銷售及專利授權三大商業模式,其中設備銷售版本預計9月完成最終驗證與產品定型,目標年底前啟動出貨,鎖定全球PIC晶圓廠、AI晶片公司、光模組廠及系統廠的光損Debug需求。
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