汎銓5月營收創同期高 光損偵測裝置獲韓專利

（綜合聯合報、中時電子報報導）

檢測分析廠汎銓（6830）今日公布2026年5月合併營收達2.17億元，月增2.5%，年增19.42%，續創歷年同期新高；累計前5月合併營收10.08億元，年增22.49%，同步刷新歷年同期紀錄。

汎銓同步宣布，旗下「光損偵測裝置（Optical Loss Detection Device）」正式取得韓國發明專利核准領證通知，完成台灣、美國、日本及韓國四大半導體市場的專利布局。該專利申請日為2023年12月1日，發明人為柳紀綸、周學良及李宗育。技術可透過特殊光學偵測架構，快速定位光訊號傳輸路徑中的漏光位置與光損來源，適用於PIC晶片、Optical Engine、CPO元件、光模組及光通訊產品等先進光電元件的研發、製程改善及失效分析。

汎銓表示，公司已建立完整的矽光子分析與量測平台，服務範圍涵蓋PIC Wafer、PIC Chip、Optical Engine、CPO半成品及光模組產品，從上游晶圓製造延伸至下游系統產品。在客戶布局上，持續深化與Tier-1晶圓廠合作，檢測分析服務已從傳統EIC Wafer延伸至PIC Wafer，並累積PIC Wafer、PIC Chip、製程半成品晶片及COUPE相關晶片的分析經驗。此外，汎銓也切入PIC設計公司與光模組市場，自主開發「MSS HG」整合量測平台，可提供PIC光損與漏光定位分析及各項規格參數量測，已協助多家PIC設計公司進行晶片Debug、元件特性驗證及Datasheet建立。

展望未來，汎銓表示，已完成矽光子產業鏈布局，將以分析服務、設備銷售及專利授權三大商業模式推動營運成長。看好AI資料中心將從數十萬顆AI加速器邁向百萬顆等級互連規模，矽光子與CPO將成為下一世代AI基礎建設核心技術，合作長達兩年的Tier-1 AI客戶需求快速成長，目前分析項目以CPO半成品及Optical Engine晶片為主。